纳米二氧化硅抛光粉
纳米二氧化硅抛光粉产品概述：二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石
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18167136000纳米二氧化硅抛光粉
产品概述：
二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
技术指标：
型号 | 外观 | 粒径 nm | 含量 % | 产品特性及应用 |
HN-SP20F | 白色粉末 | 20 | 99.8 | 精细抛光，宝石抛光 |
HN-SP50F | 白色粉末 | 50 | 99.5 | 精细抛光，宝石抛光 |
HN-SP100 | 白色粉末 | 100 | 99.5 | 精细抛光，宝石抛光 |
